专注于半导体废气处理领域
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Product Center
产品中心水洗
Areas of application 适用领域
• 用水处理半导体及面板制成气体
• 水溶性气体(HCl, HF, NH3 等)
characteristic 特点
•使用场景：半导体厂中ETCH端、厂务端特气房，EPI、MOCVD处理易溶于水气体为主
•处理能力：常态为600-1000slm可加药处理
•钵米产品特点：通过结构设计，处理一些水溶性较强的气体，或以水为介质，混合碱性溶剂处理酸性气体，使用成本较低
Benefits 优势
• pH控制和延迟时间可调
• 电控功能（电，NaOH）气体流量低时粉末可调节
• 易于维护 （反应器和湿室清洁：冷却后30分钟内）
• 自动旁路备用系统可最大程度地减少主要工具的停机时间
• 快速的冷却效果
• 所有的零件可以承受高压力(阀件、管路等）
