Areas of application 适用领域

• 用水处理半导体及面板制成气体

• 易燃气体如(SIH4，B2H6等)

characteristic 特点

• 使用场景：半导体厂中CVD端、厂务端特气房，处理含PFC气体为主

• 处理能力：常态为500-1500slm

• 适用温度：350-850度

• 钵米优势：核心电加热棒和陶瓷蓄热材料为国产、自制,全部自主研发

Benefits 优势

• 该设备对于一些有毒气体，特别是针对易燃气体如SIH4，HCL 等，其处理效果极好

• 该设备装有多重安全设施，可用于半导体行业各种工艺后尾气处理

• 该设备出气口前装有气水分离器，可以最大限度地减少水汽进入排风管

• 水循环系统被设置在机柜内部，从而使设备占地最小化

• 该设备具有自清洁功能，可以防止反应产物积聚在管道内壁

• 加热器供电系统的每一个相位都有传感器，可以很方便地判断加热器故障情况

• 使用加热控制控制加热器电路，以最大限度延长加热器寿命