专注于半导体废气处理领域
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Product Center
产品中心等离子水洗
Areas of application 适用领域
• 适用高温等离子处理半导体制成气体
• GWG (CF4, SF6, NF3 等)
• 腐蚀性气体 (Cl2, F2, BCl3, HBr 等)
• 可燃性气体 (SiH4, TEOS, DCS, H2 等)
characteristic 特点
• 使用场景：半导体厂中ETCH端、厂务端特气房，处理含CF4气体为主
• 处理能力：常态为600-1000slm
• 适用温度：1400度以上
• 钵米产品特点：掌握核心阴阳离子头来源，实现国产替代
Benefits 优势
• 预防性维护：易于维护 （反应器和湿室清洁：冷却后30分钟内）
• 设备使用率：自动旁路备用系统可最大程度的减少主要工具的停机时间
• 其它：快速的冷却效果，所有零件可以承受高压力(阀件、管路等）
